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Fabricante de LCD barato para automotivo

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Em geral Sespecificação

P/N

SDH-13304-HP-4


Poder Fornecer


3,0 V


DÉ jogar Tsim


HTN, POSIT4E ,TRANSFLECTIVO


Vobservando Direficção


12.00 O'clock


CLD Drivemg Metanfetaminaod


1/4 Duty, 1/3 Viés, 3.0V


Driver CI


ST7565R


Input Dados

Paralelolel 6800 séries MPU Interface/ Paraleloele 8080 Series MPU Interface


/ Interface SPI serial de 4 linhas


Módulo Size(L*A*T)


170*57.6milímetros

ESPESSURA DO VIDRO

1.1

CONECTOR

ALFINETE


Imagem de exibição:


Visor LCD3









Aplicativo




LIVRO GRANDE  Fábrica






Porque escolher-nos:


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Apresentamos nosso display LCD TFT, projetado especificamente para uso em smartwatches.Com sua qualidade de imagem de alta definição, este monitor certamente aprimorará a experiência do usuário.  


Nosso produto oferece um preço acessível sem sacrificar a qualidade.Confie em nossa tecnologia de nível profissional para fornecer visuais nítidos e vibrantes, tornando-o o complemento perfeito para qualquer smartwatch.Invista em nosso display LCD TFT e eleve seu produto ao próximo nível.




Tecnologia LCD TFT-LCD:


O processo de fabricação do display de cristal líquido de transistor de filme fino tem as seguintes partes: A matriz TFT é formada no substrato TFT;formar um padrão de filtro de cor e camada condutora ITO no substrato do filtro de cor;com dois substratos para formar uma instalação de caixa de cristal líquido;circuito periférico, conjunto de montagem do módulo de luz de fundo.


1. processo para formar matriz TFT em substrato TFT

TFT percebeu a industrialização dos tipos incluem: silício amorfo TFT (a-Si TFT), silício policristalino TFT (p-Si TFT), silício monocristalino TFT (c-Si) vários.Atualmente o mais utilizado é o a-Si TFT.

O processo de fabricação do a-Si TFT é primeiro pulverizar o filme do material do portão no substrato de vidro borosilicato e, em seguida, formar o padrão de grade após a exposição da máscara, o desenvolvimento e a corrosão a seco.Máquina de exposição escalonada para exposição geral à máscara.O segundo passo é usar o método PECVD para formação de filme contínuo, filme SiNx, filme a-Si não dopado, filme n+a-Si dopado com fósforo.Em seguida, o padrão a-Si da peça TFT é formado por exposição de máscara e ataque seco.A terceira etapa é formar um eletrodo transparente (filme ITO) por pulverização catódica e, em seguida, exibir o padrão do eletrodo por exposição à máscara e corrosão úmida.O padrão de orifício de contato do filme de isolamento extremo do portão de quarto passo é formado por exposição de máscara e método de corrosão a seco.O quinto passo é sputter AL no filme, com exposição de máscara, gravando a fonte, dreno e padrão de linha de sinal de TFT.Finalmente, a película protetora é formada pelo método PECVD e, em seguida, a película é atacada por exposição à máscara e corrosão a seco.A película protetora é usada para proteger o eletrodo e o eletrodo e o eletrodo de exibição.Até agora, todo o processo está concluído.

A tecnologia de matriz TFT é a chave do processo de fabricação de TFT-LCD e a maior parte do investimento em equipamentos.Todo o processo requer um alto nível de purificação (por exemplo, nível 10).




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